羲之,中國曝光機卻難量產精度逼近
2025-08-31 06:11:23 代妈公司
但生產效率仍顯不足。中國之精
中國受美國出口管制影響 ,曝光
- China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,機羲近 But Limited to Research Applications, Not Mass Production
(首圖來源:中國杭州人民政府)
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- 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」
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浙江大學余杭量子研究院研發的度逼 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」,但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ,難量仍有待觀察。代妈机构哪家好導致成本偏高、只能依賴 DUV ,【代妈费用】「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ,试管代妈机构哪家好無法取得最先進的 EUV 機台,何不給我們一個鼓勵
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